当前位置:首页  >  产品展示  >  刻蚀系统  >  RIE-PE刻蚀机  >  NRE-4000RIE-PE刻蚀机

RIE-PE刻蚀机
参考价:

型号:NRE-4000

更新时间:2021-01-25  |  阅读:893

详情介绍

NRE-4000RIE反应离子刻蚀机

NRE-4000型RIE-PE刻蚀机概述:NRE-4000是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12"的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

NRE-4000型RIE-PE刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。

NRE-4000型产品特点:

  • 铝质腔体或不锈钢腔体
  • 不锈钢立柜
  • 支持各向同性刻蚀和各向异性刻蚀两种模式
  • 能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属
  • 典型的硅刻蚀速率,400 ?/min
  • 高达12"的阳极氧化铝RF样品台
  • 水冷及加热的RF样品台
  • 大的自偏压
  • 淋浴头气流分布
  • 极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别
  • 涡轮分子泵
  • NRE-3000至多支持4个MFC,NRE-4000至多支持8个MFC
  • 无绕曲气体管路
  • 自动下游压力控制
  • 双刻蚀能力:RIE以及PE刻蚀(可选)
  • 终点监测
  • 气动升降顶盖
  • 手动或自动上下载片
  • 预真空锁
  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制
  • 菜单驱动,4级密码访问保护
  • 完全的安全联锁
  • 可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀

NRE-4000RIE反应离子刻蚀机产品型号:

  • NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"W
  • NRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"W
  • NRE-3000:基于PC计算机全自动控制的台式系统,占地面积26“D x 26"W
  • NRP-4000:RIE/PECVD双系统
  • NDR-4000:深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统
  • * 姓名:

  • * 电话:

  • * 单位:

  • * 验证码:

  • * 留言内容:

电话 询价

产品目录